在台积电的研讨会上，EVG介绍了纳米压印光刻（NIL）技术在光子集成电路和激光制造的大规模生产中的应用。NIL特别适合在光子芯片内定义周期性结构，比如光栅耦合器或微透镜阵列，用于微发射阵列，甚至可能用于DFB激光器的光栅。（1/3）🧵
—— SemiAnalysis (@SemiAnalysis) X帖子｜2026-09-29T19:01:02+00:00
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在台积电的研讨会上，EVG介绍了纳米压印光刻（NIL）技术在光子集成电路和激光制造的大规模生产中的应用。NIL特别适合在光子芯片内定义周期性结构，比如光栅耦合器或微透镜阵列，用于微发射阵列，甚至可能用于DFB激光器的光栅。（1/3）🧵
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